电子工业纯水设备

1，麦克尼斯EDI膜块介绍

麦克尼斯水处理科技自主开发研制的有自有知识产权的MX系列EDI膜块，综合的将电渗析技术与离子交换技术相结合，利用阴、阳离子交换膜、离子交换树脂、淡、浓水分离室等部件组成工作单元，依据产水量组装成各种号的膜块，在外加直流电场驱动下实现水的纯化，其有效脱盐率可达99.9%，经实际运行，安全可靠，产水水质稳定，可以连续生产高达15-18Mohmcm以上的超纯水。

2，麦克尼斯EDI膜块特点

EDI在传统的水处理系统中可替代现有的混床，它能够连续稳定地制取高纯的水。EDI的大优点在于不用化学药剂进行再生，因而不需要化学再生药剂贮存罐及相应的中和池，而且无须对有害的化学物废水进行收集、贮存及处理。使用EDI后能的简化系统配置和使用场地。RO的应用降低了对大设备场地占用的要求，EDI的技术应用则也完全地符合了这一点。由于EDI系统可以依据现场实际情况进行适配设计组合，保证设备厂房间内无高罐（混床）存在。在要求成套设备能迅速地安装起来并以投入运行时，采用膜法系统6的设备在这方面有着极其不可忽略的优势。

还有一个特点是，EDI排出的浓水中仅含有进水中的杂质成分，通常这种水的水质比预处理系统的原水进水水质要好，故浓水可以考虑直接地回收送至RO的原水入水口，这样就有效地消除了对废水的排放。相反，混床的再生是一个一次性的过程，由于使用化学药剂再生离子交换树脂床，其废液中含有比一般EDI浓水高3－4倍的废弃离子，这类废液通常不回收到预处理系统中，而是排放于废水中和池内。EDI的运行过程是连续的，其生产的水质稳定，它不象混床在每一个再生周期的开始及结束阶段因离子的泄漏而影响出水水质。这种连续运行的方式也简化了操作，无需再设置考虑因再生工作需要调整相关设备的操作人员及操作程序。

归纳为以下几点

工作连续制造纯水，无间断运行

无须加盐系统

不需要酸、碱化学试剂对树脂再生

回收率高，废水利于循环再用

出水水质稳定

容易实现膜块组合达到制水能力要求

运行费用低，符合环保要求

EDI的应用领域

⊙电厂化学水处理

⊙电子、半导体行业超纯水

⊙精密机械行业超纯水

⊙制药工业工艺用水

⊙实验室研究用超纯水

⊙精细化工、精尖学科用水

⊙其他行业所需的高纯水制备

3，EDI的技术与基础系统设计

EDI进水条件

水源：（二级）反渗透RO产水，电导率1-10s/cm，大电导率25s/cm（NaCl）

PH值：7.08.5(pH7.08.0之间EDI可有佳电阻率性能)

温：15℃--35℃，（EDI佳温在25℃）

进水压力（DIN）：0.150.4MPa

浓水进水压力（CIN）：比DIN端压力低0.060.1MPa(必须)

产水压力(DOUT)：0.050.20MPa

浓水出水压力(COUT)：比DOUT端压力低0.050.1MPa(必须)

进水硬：＜0.5ppm（碳酸钙计）

进水有机物：TOC＜0.5ppm

进水氧化剂：Cl2（活性）＜0.03ppm，O3（臭氧）＜0.02ppm，HO.（羟基氧）＜0.02ppm

进水重金属离子：Fe、Mn、变价性金属离子＜0.01ppm

进水硅：SiO2＜0.5ppm（反渗透RO产水典范围是50-150ppb）

进水总CO2：＜3ppm

进水颗粒：＜1m

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